真空镀膜是一种由物理方法产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热版源离析出来打权到被镀物体的表面上。在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。
真空蒸发镀膜设备主要用于在经予处理的塑料、陶瓷等制品表面蒸镀金属薄膜（镀铝、铬、锡、不锈钢等金属）、七彩薄仿金膜等，从而获得光亮、美观、；价廉的塑料，陶瓷表面金属化制品。供参考。