电子束光刻胶HSQ能用X射线辐照吗

光刻胶（英语：photoresist），亦称为光阻或光阻剂，是指通过紫外光内、深紫外光、电子束、离子束、X射线等光容照或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料，是光刻工艺中的关键材料，主要应用于集成电路和半导体分立器件的细微图形加工。